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Photochemische Abscheidung von Dünnschichtsystemen aus der Gasphase (Photo-CVD Dünner Schichten)

Förderzeitraum
1988-11-01  –  1993-03-31
Bewilligte Summe
3.369.221,76 EUR
Ausführende Stelle
Battelle-Institut e.V., Frankfurt am Main, Hessen
Förderkennzeichen
0328965A/5
Leistungsplansystematik
Dünnschichttechnologien Silizium [EB1021]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIC6)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
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