2018-05-01  –  2021-10-31

1.001.392,00 EUR

RENA Technologies GmbH - Solar Technologie Center Freiburg, Freiburg im Breisgau, Baden-Württemberg

0324274D

Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]

01183044/1  –  GENESIS - Neuartige und weiterentwickelte Produktionsprozesse für die nächste Generation von Siliziumsolarzellen

Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)

Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)

Energie

Im Rahmen des Verbundvorhabens Genesis 'Neuartige und weiterentwickelte Produktionsprozesse für die nächste Generation von Silizium Solarzellen' verfolgt die Rena Technologies das Ziel 'Innovative Anlagentechnik für nasschemische und galvanische Prozesse'. Dabei wird das Hauptaugenmerk auf die direct plating Technologie gelegt. Die Kontaktierung des Emitters wird neben der konsequenten Weiterentwicklung der etablierten Silber-Siebdruck-Technologie von dem Versuch flankiert werden, die lichtinduzierte (LIP) Plating-Technologie möglichst nahe an die Industriereife zu überführen. Maßgeblicher Grund, diese Prozesstechnologie zu berücksichtigen, ist die selbst-alignierende Fähigkeit des Platings bei derzeit bereits beherrschten Fingerlinienbreiten unter 30 µm (im Vergleich zum Silber-Siebdruck: ~ 50 µm). Zusätzlich wird die kostenintensive und Marktschwankungen ausgesetzte Silberpaste auf der Vorderseite durch kostengünstigeres Kupfer ersetzt. Diese prozessinhärenten Vorteile der galvanischen Abscheidung von Ni/Cu/Ag-Kontakten auf vordefinierten lasergeöffneten Strukturen in der Anti-Reflektionsschicht (ARC) werden mit fortschreitender Miniaturisierung der Kontakt-) Strukturgrößen, insbesondere für two-terminal devices mit verschattender Metallisierung auf der sonnenzugewandten Solarzellenvorderseite an Bedeutung gewinnen. Des Weiteren beteiligt sich die RENA Technologies an einem Reinigungsbenchmark vor der AlOx-Abscheidung und es werden Prozessbausteine geliefert und optimiert zur Bildung passivierender Kontakte in enger Zusammenarbeit mit dem ISFH.