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Verbundvorhaben: NextStep - Zuverlässige 23% Solarzellen mit kostengünstigen, marktnahen Zellprozessen und SmartWire-Zellverschaltung; Teilvorhaben: Entwicklung von Prozessen für und Charakterisierung von effizienten und kostengünstigen Solarzellen

Zeitraum
2017-08-01  –  2020-12-31
Bewilligte Summe
3.226.686,00 EUR
Ausführende Stelle
Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme (ISE), Freiburg im Breisgau, Baden-Württemberg
Förderkennzeichen
0324171B
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Gesamtentwicklung [EB1014]
Verbundvorhaben
01178629/1  –  Nextstep - Zuverlässige 23% Solarzellen mit kostengünstigen, marktnahen Zellprozessen und SmartWire-Zellverschaltung
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
 
In diesem Teilvorhaben wird die Entwicklung von PECVD (engl. plasma-enhanced chemical vapour deposition)-Beschichtungsverfahren für höchsteffiziente n-Typ-Emitter auf der Basis von in-situ-Plasmacharakterisierung sowie von PECVD-Beschichtungsprozessen für Antireflexschichten, die zusätzlich als Dotierstoffspender für lokale Dotierung fungieren. Weiterhin sollen Methoden zur hochaufgelösten mikrostrukturellen Charakterisierung von Siliziumnitrid-Schichten optimiert werden, mit dem Ziel, die Einflüsse eines PECVD-Prozesses auf die Schichtstruktur / Passiviereigenschaften besser bewerten zu können. Für die Bewertung neuer Schichtstrukturen werden zudem routinetaugliche Testverfahren für deren elektrische Charakterisierung hinsichtlich UV- und Temperaturdegradation entwickelt. Ziel ist die Entwicklung einer >/=23.5%-effizienten Solarzelle mit einseitiger passivierter Kontaktstruktur sowie die Evaluation und Entwicklung von Beschichtungsverfahren für passivierte Kontakte. Durch die Analyse von Degradationsmechanismen dünner oxydischer Schichten für die Anwendung an passivierten Kontakten wird auf Basis von Mikrostrukturcharakterisierung ein grundlegendes Verständnis zu den Prozesseinflüssen aufgebaut.
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