2022-08-01  –  2025-07-31

176.982,07 EUR

Plasus GmbH, Mering, Bayern

03EE1137D

Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]

01247917/1  –  PlasCon - Plasmatechnologie für hocheffiziente Solarzellen mit passivierten Kontakten der nächsten Generation

Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)

Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)

Energie

Im Rahmen dieses Projekts wird eine neue spektral und zeitlich hochauflösende mehrkanalige In-situ-Plasmamonitoring-Technologie entwickelt, die eine genaue Beobachtung der Zusammensetzung der Plasmaspezies und deren zeitliche Entwicklung im laufenden PECVD-Prozess ermöglicht. Mit der neuen Methode sollen insbesondere Aspekte zur hohen Gasausnutzung bei gleichzeitig hohem Anlagendurchsatz und zur homogenen Gasverteilung innerhalb der Anlage detailliert untersucht werden. Aus den aufgenommenen Spektren eines Plasmamonitorsystems kann die Plasmazusammensetzung bestimmt werden. Für die in diesem Projekt verwendeten Gase und der einzusetzenden Mikrowellenanregung ist dabei eine hohe spektrale Auflösung notwendig, um die Spektrallinien der unterschiedlichen Plasmaspezies eindeutig zu detektieren. Neben der spektralen Auflösung muss gleichzeitig eine hohe zeitlich Auflösung der Messungen realisiert werden, um die dynamischen Effekte durch die gepulste Mikrowellenanregung in der Anlagenkammer zu beobachten, die einen entscheidenden Einfluss auf die Gasausnutzung haben können. Außerdem ist es notwendig, die örtliche Verteilung der Plasmazusammensetzung an verschiedenen Orten der Anlagenkammer simultan zu messen. Diese dreifache Herausforderung von spektraler hoher Auslösung, großer zeitlicher Auslösung und simultaner Messung an mehreren Positionen ist Ziel der Entwicklung der neuen Plasmamonitoring-Technologie in diesem Teilvorhaben.