Verbundvorhaben: PlasCon - Plasmatechnologie für hocheffiziente Solarzellen mit passivierten Kontakten der nächsten Generation; Teilvorhaben: Mikrowellen-basierte Gasaktivierungstechnologie für hocheffiziente Solarzellen mit passivierten Kontakten der nächsten Generation
Zeitraum
2022-08-01 – 2025-07-31
Bewilligte Summe
329.783,05 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
03EE1137C
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]
Verbundvorhaben
01247917/1 – PlasCon - Plasmatechnologie für hocheffiziente Solarzellen mit passivierten Kontakten der nächsten Generation
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
In dem Teilvorhaben wird die Muegge GmbH als führendes Unternehmen in den Bereichen der Mikrowellentechnologe und der Mikrowellen-basierten Plasmatechnologie eine neuartige Mikrowellen-Plasmaquelle für Plasmaanwendungen auf großer Fläche entwickeln. Diese wird aus einzeln Elementen bestehen, die individuell ansteuerbar sind, so dass die Mikro-wellenleistung, die Frequenz sowie die Phase für jedes Element individuell eingestellt werden kann. Dadurch können die Plasmaparameter exakt eingestellt und das Plasma selbst zielgerichtet geformt werden. Mit dieser neuartigen Plasmaquelle werden dann im Verbundvorhaben 'PlasCon' Abscheideprozesse für Bor- oder Phosphor-dotierte Silizium-Schichten und für Siliziumoxid-Schichten entwickelt. Des Weiteren wird die Muegge GmbH eine bereits für anderen Plasmaanwendungen erfolgreich eingeführte Plasmaquelle für die effiziente Oxidation von Silizium-Oberflächen adaptieren. Mit dieser remote betriebenen 2,45 GHz-Plasmaquelle werden in einem Plasma, welches sich im Unterdruck im Bereich von etwa 1 mbar und wenigen 100 mbar befindet, Sauerstoffradikale in hoher Dichte erzeugt. Über einen Druckgradienten werden diese Sauerstoffradikale dann homogen auf die zu oxidierenden Silizium-Oberflächen geleitet. Die neuartige flächige Mikrowellen-Plasmaquelle soll ebenso wie die adaptierte, remote betriebene 2,45 GHz-Plasmaquelle für große Wafer bis G12-Format verwendet werden können. Das Konzept für die beiden Mikrowellen-Plasmaquellen sieht vor, durch eine um 50% gesteigerte Gasausnutzung in Kombination mit einer hohen Abscheiderate, die den Anlagendurchsatz um 50% erhöhen soll, und einer reduzierten Anzahl der benötigten Prozessschrit-te zur Ressourcenschonung und Kostensenkung beizutragen.