2014-10-01  –  2017-12-31

71.827,00 EUR

Plasus GmbH, Mering, Bayern

0325754B

Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]

01154817/1  –  Simulation-Plasma-Analytik-Experiment-Hocheffiziente Vakuumbeschichtung von passivierenden Schichtsystemen auf c-Si-Solarzellen

Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)

Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)

Energie

In diesem Teilprojekt sollen die im Verbundprojekt SIMPLEX eingesetzten Schichtabscheidungssysteme hinsichtlich (i) ihrer chemischen Zusammensetzung untersucht werden, (ii) die zeitliche Entwicklung der Plasmateilchen im Abscheideprozess beobachtet und (iii) die räumliche Verteilung der Plasmateilchen im Prozessraum gemessen werden. Mit den Kenntnissen aus dieser Messungen sollen dann Regelverfahren für industrielle Produktionsanlagen ermitteln werden, die den Schichtabscheideprozess zeitlich und räumlich stabilisieren. Zielgebend ist dabei die Verringerung der Herstellkosten von Solarzellen auf der Basis der Abscheidetechnologie von Al2O3 und Si3N4, um nachhaltig wettbewerbsfähig zu sein. Innerhalb des Verbundprojektes sollen zunächst die Konzepte und Schichtabscheidungssysteme auf verschiedene Weise durch die Projektpartner analysiert und auf Produktionstauglichkeit überprüft werden, um sie dann im Folgenden in die Produktion zu überführen. Dabei sollen die notwendigen Modifikationen an einzelnen Bauteilen der heute verwendeten Beschichtungsanlagen erarbeitet und durchgeführt werden. Innerhalb dieses Teilvorhabens sollen dazu spektroskopische Messungen in Echtzeit mit einem Plasmamonitorsystem an der Entwicklungsanlage und an der Produktionsanlage durchgeführt werden. Hierbei kommt ein Mehrkanalsystem zum Einsatz (3-4 Kanäle), um auch die räumliche Verteilung der Plasmateilchen zu erfassen. Nach der Analyse der zeitlichen und räumlichen Messdaten wird ein Regelkonzept zur Stabilisierung des Prozessplasmas erarbeitet und an der Produktionsanlage des Verbundpartners überprüft und optimiert.