Verbundvorhaben: DYNASTO – Dynamische Abscheidung von a-Si und TCO-Schichten für Hocheffizienz Si-Solarzellen als Schlüssel für hochproduktive Fertigung bei reduzierten Herstellungskosten; Teilvorhaben: Dynamische PECVD für Hocheffizienz Si-Solarzellen - Grundlagenuntersuchungen
Zeitraum
2019-01-01 – 2022-06-30
Bewilligte Summe
265.693,49 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0324293D
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]
Verbundvorhaben
01183209/1 – Dynasto - Dynamische Abscheidung von a-Si:H6TCO-Schichten für die Hocheffizienz Silizium-Heterojunction Solarzellen als Schlüssel für hochproduktive Fertigung bei reduzierten Herstellkosten
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
Im Projekt werden Grundlagenuntersuchungen zur dynamischen Abscheidung von amorphem Silizium für Heterojunction Solarzellen durchgeführt. Dabei kommt ein hochproduktives dynamisches PECVD Verfahren mittels linearer Plasmaquellen zum Einsatz. Einerseits sollen im Projekt sehr hohe dynamische Abscheideraten (5 nm.m/min) bei gleichzeitig hoher Passivierwirkung der a-Si:H Schichten (> 1ms, iVoc > 720mV) erreicht werden. Andererseits wird auch die Industrietauglichkeit der Abscheidung (Gasausnutzung > 20%) verbessert. Des Weiteren werden grundlegende Aspekte der dynamischen Abscheidung (Einfluss der Substratgeschwindigkeit, Homogenität der Abscheidung etc.) vor dem Hintergrund einer geforderten effizienten, wartungsarmen Beschichtungstechnologie untersucht. Der Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die Produktivität der Abscheidung ist ebenfalls Untersuchungsgegenstand des Teilvorhabens.
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