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Entwicklung innovativer Technologien, Prozesse und Verfahren für eine zukünftige Generation von Solarmodulen auf der Basis von (EFG-)Siliciumfolien - FZS

Zeitraum
2004-01-01  –  2008-03-31
Bewilligte Summe
7.696.990,00 EUR
Ausführende Stelle
SCHOTT Solar AG, Alzenau, Bayern
Förderkennzeichen
0329717C
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Gesamtentwicklung [EB1014]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
 
Mit einer neuen EFG-Technologie (Edge-defined Film-fed Growth) werden Solarwafer mit Kantenlängen von 125 mm bis 156 mm bei deutlich gesteigerter Produktivität hergestellt. Dieses neue Verfahren lässt zukünftig eine Reduzierung der Waferdicken bis auf 200 µm zu. Zum Trennen der Wafer aus den EFG-Rohren werden neue Laser eingesetzt, die bei höherer Schnittgeschwindigkeit ohne zusätzliche Randbearbeitung die Festigkeit der Wafer verdoppelt. Die Wirkungsgrade von EFG-Solarzellen konnten in der Produktion auf etwa 15% gesteigert werden, Laborwirkungsgrade liegen bei 18,2%. Konzepte für neue Fertigungslinien für EFG-Solarzellen lassen eine Kapazitätssteigerung von 100%, bei lediglich 25% höherem Investitionsvolumen erwarten.
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