Infrastruktur für industrienahe Laserprozesse in der Siliciumphotovoltaik
Zeitraum
2006-08-01 – 2007-05-31
Bewilligte Summe
676.023,00 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0327547A
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
Infrastruktur für industrienahe Laserprozesse in der Siliciumphotovoltaik FKZ 0327547A\n\nDie Verwendung von Lasern erlaubt berührungsfreie Materialbearbeitung, um auch dünne bruchempfindliche Siliciumwafer mit hoher Ausbeute zu bearbeiten.\nEs wurden neuartige Laseranlagen für das Laserstrukturieren von Silicium für Hocheffizienzsolarzellen, für ein schädigungsarmes Entfernen dielektrischer Passivierschichten für lokale Kontakte von Hocheffizienzsolarzellen und für das Laserlöten in der Modulherstellung aufgebaut.\nDie Laseranlagen wurden zu konzipiert und aufgebaut. Der Laborbetrieb sowie Übertragbarkeit in die Fertigung sind Hauptkriterien. Die Präzision und Geschwindigkeit der Laseranlagen wurde demonstriert, um ihren Einsatz in der Produktion den Weg zu bereiten.
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