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Verbundvorhaben: HJT4.0 - Nächste Generation Fertigungs- und Prozesstechnologien für Heterojunction-Solarzellen und Module für Industrie 4.0; Teilvorhaben: Nasschemische Textur und Reinigung, Schichtsysteme für selektive Kontakte, Industrie 4.0 i.d. HJT-Fertigung, Maschinengeneration mit höherem Durchsatz

Zeitraum
2017-11-01  –  2021-04-30
Bewilligte Summe
520.382,50 EUR
Ausführende Stelle
RENA Technologies GmbH - Solar Technologie Center Freiburg, Freiburg im Breisgau, Baden-Württemberg
Förderkennzeichen
0324172D
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]
Verbundvorhaben
01178832/1  –  Nächste Generation Fertigungs- und Prozesstechnologien für Heterojunktion-Solarzellen und Module für Industrie 4.0
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
 
Im Rahmen des Verbundvorhabens HJT4.0 verfolgt die RENA Technologies das Ziel, die Heterojunction-Technologie (HJT) im Bereich der nasschemischen Verfahren, insbesondere der alkalischen Textursequenz, konkurrenzfähig gegenüber den industriell viel weiter ausgereiften Standard- und PERC-Zellfertigungstechnologien zu halten. Unter Einbeziehung der Konzepte für die Industrie 4.0 wird die Entwicklung, Einbindung und Anpassung der nasschemischen Prozesse in geeignete Maschinenkonzepte neuartige, effiziente HJT-Produktionslinien ermöglichen. Hierfür wird der Durchsatz eines RENA Batchsystems für den industriellen Einsatz mit Eignung für HJT auf über 4000 Wafer/h erhöht, ohne die Zelleffizienz auf einen Wirkungsgrad unter 23% zu limitieren. Dies erfordert eine Optimierung der gesamten nasschemischen, für die RENA Technologie monoTEX® basierten Prozesssequenz über die Prozessfenster und die Berücksichtigung neuartiger Prozesse. Die Einbindung eines Manufacturing Execution System (MES) auf Basis der Einzelwaferverfolgung ermöglicht die ganzheitliche Optimierung entlang der Produktionskette und weitere Innovationen in der Produktentwicklung über die Erweiterung effizienzsteigender Funktionen an der Maschine selber. Zusätzlich werden neuartige Schichtsysteme zur Bildung des selektiven Kontakts durch die Einführung nasschemischer und trockener, dünner SiOx-Schichten vorzugsweise in die Produktionssequenz der Batchsysteme evaluiert. Die Abstimmung zwischen der Hardwareoptimierung und Teilen der Prozessoptimierung erfolgt über geeignete Simulationen.
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