Verbundprojekt: Entwicklung einer galvanischen Verdickung der Vorderseitenkontakte
Zeitraum
2006-06-01 – 2008-05-31
Bewilligte Summe
102.528,70 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0327569B
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]
Verbundvorhaben
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
Beim Siebdruck von Kontakten auf Siliciumsolarzellen entstehen relativ breite (> 100 µm) Linien mit einer recht großen Abschattung und nur mittelmäßiger elektrischer Leitfähigkeit. Mit dem Trend zu größeren Zellen wird dieser Verlustmechanismus immer relevanter. Im Rahmen des Vorhabens GaSol wird vom Fraunhofer ISE und der Fa. Gebr. Schmid der Ansatz verfolgt, nur eine sehr dünne Saatschicht aufzubringen, die dann mittels Galvanik verdickt wird. Die Abscheidung im Galvanikbad ist selektiv, d.h. nur an den bereits vorhandenen Kontaktlinien scheidet sich Silber ab. Die Leitfähigkeit des so aufgebrachten Materials ist wesentlich höher als die von siebgedrucktem Material, so dass aufgrund der besseren Kontaktgeometrie und -leitfähigkeit ein höhrerer Wirkungsgrad erreicht werden kann.
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