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Technologieentwicklung zur galvanischen Nickelkontaktierung für kristalline Silicium-Solarzellen

Zeitraum
2010-04-01  –  2013-03-31
Bewilligte Summe
890.000,00 EUR
Ausführende Stelle
Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme (ISE), Freiburg im Breisgau, Baden-Württemberg
Förderkennzeichen
0325187
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
 
Das Forschungsvorhaben TechNick fokussiert auf die Entwicklung einer Anlagentechnologie zur chemischen Nickelabscheidung, die für die industrielle Solarzellenherstellung geeignet ist, sowie eines vollständig galvanisch erzeugten Kontaktaufbaus. Im Labormaßstab konnten am Fraunhofer ISE bereits Wirkungsgrade von über 20 Prozent auf kleinen Flächen aus monokristallinem Silicium mit zweistufiger galvanischer Kontaktierung der Vorderseite erzielt und damit das hohe Potenzial dieser Kontaktierungstechnologie gezeigt werden. Als Nächstes sollen diese Prozesse auf großflächige Solarzellen übertragen sowie geeignete Anlagen für eine industrielle Anwendung entwickelt werden.
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