Verbundvorhaben: Epi-lnspec - Inspektion von EpiWafern und deren Vorstufen; Teilvorhaben: Messtechnik zur Inspektion von EpiWafern und deren Vorstufen
Zeitraum
2019-12-01 – 2021-11-30
Bewilligte Summe
319.120,00 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
03EE1043B
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Basismaterial [EB1011]
Verbundvorhaben
01192625/1 – EPI-Inspec - Inspektion von EpiWafern und deren Vorstufen
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
Die Ziele, die Hennecke in diesem Projekt verfolgt, sind sehr stark orientiert an Verbesserungen und Neuentwicklungen der Messmaschine, die in der Folge einen Vorsprung vor den Mitbewerbern am Markt und erhöhte Chancen im Verkauf der Maschinen bedeuten. Insbesondere die Anpassung der bestehenden Messverfahren auf die Wafer und Precursoren der neuen 'kerfless' Technologie können für die Hennecke-Messmaschinen ein Alleinstellungsmerkmal und Verkaufsargument sein. In diesem Sinne verfolgt Hennecke die folgenden Haupt-Ziele: - Erweiterung des Messgeräte-Portfolios auf die speziellen Wafer und Precursoren des EPI-Wafer-Prozesses - Machbarkeit der deutlichen Erhöhung der Auflösung des 'Perpendicular Edge Detection' Messsystems festgestellt. Um diese Ziele zu erreichen sind die folgenden Teilziele nötig: - Erweiterung des Messgeräte-Portfolios auf stark reflektierende Wafer - Oberflächen und Kantenchippings auf den porosifizierten und reorganisierten Saat Wafern messbar. - Oberflächenqualität, Ebenheit, Homogenität und Verunreinigungen auf den porosifizierten und reorganisierten Wafern messbar - Biegung, Kristallstruktur und Mikrorisse des EPI-Substrat Stacks messbar
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