Grundlagen und Technologie für die Silizium-Dünnschichtphotovoltaik auf der Basis von Niedertemperaturprozessen
Zeitraum
2006-09-01 – 2010-12-31
Bewilligte Summe
3.275.610,00 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0327625
Leistungsplansystematik
Dünnschichttechnologien Silizium [EB1021]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
Das Institut IEK 5 Photovoltaik am Forschungszentrum Jülich befasst sich im Rahmen des HGF Programms Erneuerbare Energien mit der Si-Dünnschichtsolarzelle als zentrales Forschungsgebiet. Durch den rapiden Aufbau von Produktionskapazitäten für diese Solarzelle in Deutschland und weltweit ist der Bedarf insbesondere an produktionsnahen F&E Arbeiten enorm gestiegen. Um das Institut in die Lage zu versetzen, diesem Bedarf nachzukommen und die Technologie voranzutreiben, wurden im Rahmen des Projekts ein breites Spektrum mittel- und großflächiger Depositions- und Meßapparaturen für Si-Dünnschichtsolarzellen angeschafft. Diese Anlagen beinhalten u. a. eine hochkomplexe Cluster-Tool-Plasma-Depositionsanlage sowie großflächige Messplätze für AFM, Degradation und Solarzellencharakterisierung.
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