Verbundvorhaben: Entwicklung eines industrietauglichen Hochratenzerstäubungsprozesses für ZnO für CIS-Dünnschichtsolarzellen
Zeitraum
2000-01-01 – 2003-06-30
Bewilligte Summe
92.545,88 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0329859B/2
Leistungsplansystematik
Dünnschichttechnologien Chalkopyrite [EB1022]
Verbundvorhaben
01017756/1 – Entwicklung eines industrietauglichen Hochratenzerstäubungsprozesses für ZnO für CIS-Dünnschichtsolarzellen
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Bezüglich der Wirkungsgraderhöhung und der Reduzierung der Herstellungskosten besitzen Dünnschichtsolarzellen in der Photovoltaik ein großes Entwicklungspotential. Ziel des Projektes war daher die Entwicklung eines industriell geeigneten Beschichtungsprozesses zur Abscheidung von transparenten und leitfähigen Oxidschichten (TCO) auf Basis von Aluminium-dotiertem Zinkoxid. Als Vakuumbeschichtungsprozess wurde das Magnetronsputtern (ein Zerstäubungsprozess) angewendet. Es wurde ein reaktiver Sputterprozess vom metallischen Target entwickelt, da sich hier ein hohes Kostenreduktionspotential geboten hatte, und auf eine Pilotanlage übertragen. Die Plasmaanregung erfolgte mit Gleichstrom, gepulstem Gleichstrom und mit Wechselstrom.
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