Verbundprojekt PRISMA - Teilprojekt HERKULES Herstellverfahren für kristalline Silicum-Dünnschicht-Solarzellen auf hochtemperaturstabilen Substraten; HERKULES D: Plasma-SiC-Schichten für kristalline Silicium-Dünnschichtsolarzellen
Zeitraum
2003-11-01 – 2007-05-31
Bewilligte Summe
262.566,00 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0329850H
Leistungsplansystematik
Dünnschichttechnologien Silizium [EB1021]
Verbundvorhaben
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
Kristalline Silicium-Dünnschicht PV-Module besitzen ein erhebliches Kostensenkungspotenzial. Im Projekt stand die Entwicklung der Siliciumab­scheidung und die Zellprozessentwicklung im Mittelpunkt. Mit dem neu entwickelten CoCVD Verfahren wurde erstmals Flächen von 1600 cm2 mit einer Rate von 2 µm/min homogen mit Silicium beschichtet. Es wurden erfolgreich Solarzellen auf Fremdsubstraten (bandgezogenes SiC, biogen abgeleitetes SiC und Graphit) auf Scheiben von 10 x 10 cm hergestellt und charakterisiert. Die Ladungs­trägerlebensdauer von mehr als 20 µm, die geringe Versetzungsdichte (<10-3cm-2) belegen die gute Qualität des abgeschiedenen Siliciums. Wirkungsgrade für Zellen auf Graphit von 11,1% und 5,3% auf Keramik wurden erreicht. Als Kostenpotential wurde mit 0,87 /Wp ermittelt.
Weitere Informationen