VHF-Hochrate-Plasma-CVD auf großen Flächen für amorphe und mikrokristalline Siliziumschichten
Zeitraum
1997-05-01 – 2001-05-31
Bewilligte Summe
1.446.897,42 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0329563B/3
Leistungsplansystematik
Dünnschichttechnologien Silizium [EB1021]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
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