Silicium Laser Chemical Etching 1
Zeitraum
2007-03-01 – 2009-06-30
Bewilligte Summe
1.236.000,00 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0327654
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Basismaterial [EB1011]
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
Die am Fraunhofer ISE entwickelte Methode LCE ('Laser Chemical Etching') basiert auf einem flüssigkeitsstrahlgeführten Laser und soll im Projekt SLCE1 grundlegend entwickelt werden. Dabei ergeben sich im Erfolgsfall vielfältige neue Bearbeitungsmöglichkeiten zur Prozessierung von hocheffizienten Solarzellen:\n\nSilicium-Strukturierung ohne Schaden im Kristallgitter, dabei gleichzeitig p- oder n-Dotierung\n\nWaferherstellung bei sehr gerinen Waferdicken (Zielgröße 50 µm), sehr glatten und ungeschädigten Oberflächen und minimaler Schnittkerben-Breite (Zielgröße 50 µm)\n\nDiese Arbeiten werden am Fraunhofer ISE zusammen mit den Industriepartnern REC, SolarWorld, Manz und Synova durchgeführt.
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