Verbundvorhaben DIANA: Entwicklung des Diamantdraht-Trennprozesses und notwendiger Reinigungstechnologie zur Silizium-Waferherstellung; Teilvorhaben: Weiterentwicklung der auf die Waferreinigung einflussnehmenden Waferfertigungsprozesse.
Zeitraum
2016-07-01 – 2017-05-12
Bewilligte Summe
622.044,61 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0324087A
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Basismaterial [EB1011]
Verbundvorhaben
01171054/1 – Entwicklung des Diamantdraht-Trennprozesses und notwendiger Reinigungstechnologien zur Silizium-Waferherstellung
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
Das Verbundprojekt zielt zum einen auf die Senkung der Herstellkosten im Trennschleifverfahren um 30% durch mögliche Substitutionen oder Einsparung bestimmter Fertigungsschritte oder Hilfs- und Betriebsstoffe ab und zum anderen auf die Erhöhung der Waferqualität durch eine verbesserte Waferreinigung und die optimale Anpassung der Fertigungsprozesse an die notwendigen Voraussetzungen in der nachgelagerten Wertschöpfungsstufe.
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