Verbundvorhaben: GROSCHEN - Entwicklung einer nächsten Generation nasschemischer Prozesse für industrielle hocheffiziente kristalline Silizium Solarzellen; Teilvorhaben: Nasschemische Anlagen- und Prozesstechnologieentwicklung für industrielle hocheffiziente c-Si Solarzellen
Zeitraum
2016-01-01 – 2018-12-31
Bewilligte Summe
1.960.125,00 EUR
Ausführende Stelle
Förderkennzeichen
0324012A
Leistungsplansystematik
Kristallines Silizium Zellenentwicklung [EB1012]
Verbundvorhaben
01167107/1 – Nächste Generation nasschemischer Prozessierung für industrielle kristalline Silizium Solarzellen
Zuwendungsgeber
Bundesministerium für Wirtschaft und Klimaschutz (BMWK.IIB5)
Projektträger
Forschungszentrum Jülich GmbH (PT-J.ESE1)
Förderprogramm
Energie
Im Rahmen des Projektes sollen industriell verwertbare nasschemische Prozesstechniken zur Herstellung hocheffizienter Solarzellenstrukturen entwickelt bzw. weiter optimiert werden. Des Weiteren sollen Solarzellen gefertigt werden und die neu entwickelten Prozesse entsprechend getestet. Das Ziel des Projektes ist die nächste Generation von nasschemischen Prozessen für industrielle hocheffiziente Silizium Solarzellen zu entwickeln. Im Wesentlichen kann der erste Teil des Projektes in vier verschiedene Entwicklungsfelder aufgeteilt werden: Feld 1: Umsetzung neuartiger auf Nasschemie basierender Texturierungsprozesse, die eine Bearbeitung multikristalliner Siliziumsolarzelle deutlich wirtschaftlicher gestallten Feld 2: Optimierung und Anpassung von einseitigen Ätzprozessen zum Reinigen von Silizium-Oberflächen in unterschiedlichen Prozessstadien Feld 3: Entwicklung von kostengünstigen homogenen Emitter-Rückätzverfahren Feld 4: Entwicklung und Charakterisierung von Prozesstechniken zur Beeinflussung der Oberflächeneigenschaften von Siliziumoberflächen vor Passivierung und deren prozesstechnische Umsetzung im Durchlaufverfahren Der zweite Teil des Projektes zielt auf die Entwicklung Galvanische Prozesstechnologie zur Erzeugung von Vorderseitenkontakten ab und lässt sich ebenfalls in vier Entwicklungsfelder aufteilen: Feld 1: Optimierung des Lasermikrostrukturverfahrens zur Herstellung von schädigungsarmen Kontaktöffnungen mit Strukturbreiten kleiner 15 µm Feld 2: Optimierung bzw. Entwicklung von galvanisch Abscheideverfahren für Ni, Cu und einer Capping-Schicht, die eine homogene und schmale Kontaktstrukturbreite erlaubt Feld 3: Entwicklung thermischer Nachbehandlungsschritte für moderne Emitterprofile die Kontakthaftungen größer 1 N/mm garantieren und gleichzeitig niedrige Kontaktwiderstände erlauben Feld 4: Integration von galvanischen Kontakte in PERC Solarzellen und Modulintegration von galvanisch metallisierte Solarzellen mit innovativen Modultechnologien
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